Canon: se espera que la tecnología de nanoimpresión fabrique semiconductores de 2 nm
Canon Corporation de Japón anunció el 13 de octubre el lanzamiento del equipo de fabricación de semiconductores FPA-1200NZ2C NanoImprint (NIL).El CEO de Canon, Fujio Mitarai, ha declarado que la nueva tecnología de nanoimpresión de la compañía allanará el camino para que los pequeños fabricantes de semiconductores produzcan chips avanzados, y esta tecnología actualmente es propiedad de las compañías más grandes de la industria.
Al explicar la tecnología de nanoimpresión, Iwamoto Kazunori, el jefe del negocio de equipos de semiconductores de Canon, declaró que la tecnología de nanoimpresión implica imprimir una máscara con un diagrama de circuito de semiconductores en una oblea.Al imprimir solo una vez en una oblea, se pueden formar circuitos bidimensionales o tridimensionales complejos en la posición apropiada.Si se mejora la máscara, se pueden producir productos incluso con un ancho de línea de circuito de 2NM.Actualmente, la tecnología NIL de Canon permite que el ancho de línea mínimo del patrón corresponda a un semiconductor lógico de nodo de 5 nm.
Se informa que la industria de equipos de fabricación de chips de 5 nm está dominada por ASML, y el método de nanoimpresión de Canon puede ayudar a reducir la brecha.
En términos de costos del equipo, Iwamoto y Takashi declararon que los costos de los clientes varían según las condiciones, y se estima que el costo requerido para un proceso de litografía a veces se puede reducir a la mitad del equipo de litografía tradicional.La reducción en la escala de los equipos de nanoimpresión también facilita la introducción de aplicaciones como la investigación y el desarrollo.El CEO de Canon, Fujio Mitarai, ha declarado que el precio de los productos de equipos NanoImprinting de la compañía será un dígito más bajo que el equipo EUV (extremo ultravioleta extremo) de ASML, pero la decisión final de precios aún no se ha tomado.
Se informa que Canon ha recibido muchas consultas de fabricantes de semiconductores, universidades e institutos de investigación sobre sus clientes.Como un producto alternativo para el equipo EUV, el equipo de nanoimpresión es muy esperado.Este dispositivo se puede utilizar para varias aplicaciones de semiconductores, como la memoria flash, el DRAM personal de la computadora y la lógica.
Se informa que la industria de equipos de fabricación de chips de 5 nm está dominada por ASML, y el método de nanoimpresión de Canon puede ayudar a reducir la brecha.
En términos de costos del equipo, Iwamoto y Takashi declararon que los costos de los clientes varían según las condiciones, y se estima que el costo requerido para un proceso de litografía a veces se puede reducir a la mitad del equipo de litografía tradicional.La reducción en la escala de los equipos de nanoimpresión también facilita la introducción de aplicaciones como la investigación y el desarrollo.El CEO de Canon, Fujio Mitarai, ha declarado que el precio de los productos de equipos NanoImprinting de la compañía será un dígito más bajo que el equipo EUV (extremo ultravioleta extremo) de ASML, pero la decisión final de precios aún no se ha tomado.
Se informa que Canon ha recibido muchas consultas de fabricantes de semiconductores, universidades e institutos de investigación sobre sus clientes.Como un producto alternativo para el equipo EUV, el equipo de nanoimpresión es muy esperado.Este dispositivo se puede utilizar para varias aplicaciones de semiconductores, como la memoria flash, el DRAM personal de la computadora y la lógica.